【브레이크뉴스 대구】이성현 기자=DGIST 차세대센서·반도체연구소가 반도체 공공팹 고도화와 기술지원 체계 강화를 위한 국가 연구개발사업에 선정됐다.

▲ DGIST 차세대센서‧반도체연구소 클린룸에서 반도체 실무형 교육을 위한 현장 설명이 진행되고 있다.  © DGIST

DGIST는 과학기술정보통신부와 한국연구재단이 추진하는 ‘2026년도 나노·소재기술개발사업-기반구축(팹고도화)’ 신규 과제의 주관연구개발기관으로 선정됐다고 밝혔다.

이번 사업은 반도체 산업 현장에서 10년 이상 경험을 쌓은 고경력 전문인력의 노하우를 공공팹 운영과 기술개발에 접목하기 위해 마련됐다.

DGIST는 사업을 통해 반도체 공정기술 개발과 팹 운영 효율화, 장비 및 설비 안정화, MPW(Multi Project Wafer) 제작 지원, 소자·설계·분석·특성평가 지원, 현장 기술 자문 등을 추진할 계획이다.

특히 기존 공공팹의 단위공정 중심 지원을 넘어 연구자와 기업이 설계부터 제작, 실증까지 안정적으로 수행할 수 있는 전주기 기술지원 체계를 구축하는 데 중점을 둘 방침이다.

사업 규모는 6년간 총 72억 원이며, DGIST는 이 가운데 42억 원의 연구비를 확보했다. 서울대학교는 공동연구개발기관으로 참여한다.

김대환 소장은 “산업 현장에서 축적된 고경력 전문인력의 경험을 공공팹 운영과 기술개발에 직접 연결한다는 점에서 의미가 크다”며 “기존 6인치 Si CMOS 기반 MPW 및 연구용 파운드리 역량을 바탕으로 서울대와 협력을 강화해 국가 반도체 연구생태계 활성화에 기여하겠다”고 말했다.

DGIST 차세대센서·반도체연구소는 6인치 웨이퍼 기반 Si 반도체 전공정 일괄처리 인프라와 설계·공정·분석 연계 역량을 보유한 국가 나노인프라 권역 허브기관이다. 연구소는 그동안 MPW 제작 지원과 공공팹 공동활용 서비스 등을 통해 산·학·연 연구자 대상 연구지원 사업을 수행해왔다.

이번 사업 연구책임자인 이상한 팀장은 “고경력 전문인력의 현장 경험과 DGIST 공공팹 인프라를 결합해 반도체 연구개발 지원과 팹 운영 안정화, 전문인력 양성 등을 더욱 강화해 나가겠다”고 밝혔다.

<구글 번역으로 번역한 영문 기사의 전문 입니다. 번역에 오류가 있을 수 있음을 밝힙니다.>

DGIST Selected for Semiconductor Fab Advancement Project… Full-scale Utilization of Experienced Professionals Begins

DGIST’s Next-Generation Sensor & Semiconductor Research Institute has been selected for a national R&D project aimed at advancing public semiconductor fabs and strengthening the technical support system.

DGIST announced that it has been selected as the lead R&D institution for a new project under the ‘2026 Nano & Materials Technology Development Project - Infrastructure Establishment (Fab Advancement),’ promoted by the Ministry of Science and ICT and the National Research Foundation of Korea.

This project was established to integrate the know-how of highly experienced professionals with over 10 years of experience in the semiconductor industry into the operation of public fabs and technology development.

Through this project, DGIST plans to pursue the development of semiconductor process technologies, the streamlining of fab operations, the stabilization of equipment and facilities, support for Multi-Project Wafer (MPW) production, support for device, design, analysis, and characterization evaluation, and on-site technical consulting.

In particular, the plan is to focus on establishing a full-cycle technology support system that enables researchers and companies to stably carry out tasks ranging from design to fabrication and demonstration, going beyond the unit-process-centered support of existing public fabs.

The project scale totals 7.2 billion KRW over six years, of which DGIST has secured 4.2 billion KRW in research funding. Seoul National University is participating as a joint R&D institution.

Director Kim Dae-hwan stated, "This is highly significant in that it directly connects the experience of highly experienced professionals accumulated in the industrial field to the operation of public fabs and technology development." He added, "Based on our existing capabilities in 6-inch Si CMOS-based MPW and research foundry services, we will strengthen cooperation with Seoul National University to contribute to the revitalization of the national semiconductor research ecosystem."

The DGIST Institute of Next-Generation Sensors and Semiconductors is a regional hub institution for national nano-infrastructure, possessing a 6-inch wafer-based Si semiconductor front-end process infrastructure and capabilities to link design, process, and analysis. The institute has been conducting research support programs for researchers in industry, academia, and research institutions through services such as MPW fabrication support and public fab shared utilization. Team Leader Lee Sang-han, the research director of this project, stated, “We will further strengthen support for semiconductor research and development, stabilize fab operations, and foster professional talent by combining the field experience of highly experienced professionals with DGIST’s public fab infrastructure.”